離子清洗機(jī)(plasma cleaner)也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

目前常用等離子體激發(fā)頻率有40kHz、13.56MHz和2.45GHz三種。

40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發(fā)頻率區(qū)別：

激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，其發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng)；

激發(fā)頻率為13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，其發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng)；

激發(fā)頻率為2.45GHz的等離子體為微波等離子體，其發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。

40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發(fā)頻率運(yùn)用：

激發(fā)頻率為40kHz的等離子體即超聲等離子體清洗是以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性。超聲等離子體清洗對(duì)被清潔表面產(chǎn)生的影響zui大，因而實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果*。典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊使表面清潔。

激發(fā)頻率為2.45GHz的等離子體即微波等離子體是典型的等離子體化學(xué)清洗工藝，是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫姡菀着c碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。主要用于科研方面及實(shí)驗(yàn)室。

激發(fā)頻率為13.56MHz的等離子體清洗是表面反應(yīng)機(jī)制中物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起重要作用，即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進(jìn)，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應(yīng)劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應(yīng)；

目前美國(guó)CIF公司所主要生產(chǎn)激發(fā)頻率為40kHz和13.56MHz等離子清洗機(jī)，了解更多產(chǎn)品信息請(qǐng)參閱CIF*：www.cif-china。。ｃｏｍ