勻膠機

簡要描述：Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態(tài)滴膠方式是在基片低速（通常在500轉/分左右）旋轉的同時進行滴膠，“動態(tài)"的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開，減少光刻膠的浪費，采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕（鋪展覆蓋）整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下，動態(tài)滴膠尤其適用，不會產生針孔。

產品型號：CIF Spin Coater
廠商性質：生產廠家
更新時間：2024-08-28
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CIF材料表面處理儀器

RIE反應離子刻蝕機 CIF等離子清洗機 CIF實驗室注射泵透射電鏡樣品桿真空存儲儀 CIF烤膠機 CIF勻膠機 CIF紫外臭氧清洗機 CIF透射電鏡樣品桿清洗機 CIF電鏡等離子清洗機 CIF粉體等離子清洗機

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詳細介紹

品牌	CIF	價格區(qū)間	10萬-30萬
產地類別	國產	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,農業(yè)

　　CIF-Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態(tài)滴膠方式是在基片低速（通常在500轉/分左右）旋轉的同時進行滴膠，“動態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開，減少光刻膠的浪費，采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕（鋪展覆蓋）整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下，動態(tài)滴膠尤其適用，不會產生針孔。

Spin Coater

　　滴膠之后，下一步是高速旋轉。使光刻膠層變薄達到要求的膜厚，這個階段的轉速一般在1500-6000轉/分，轉速的選定同樣要看光刻膠的性能（包括粘度，溶劑揮發(fā)速度，固體含量以及表面張力等）以及基片的大小?？焖傩D的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉速以及勻膠時間往往能決定膠膜的厚度。

　　一般來說，勻膠轉速快，時間長，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多，這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以建議給予勻膠過程以足夠的時間，讓諸多影響因素達到平衡。

　　Spin Coater勻膠機產品特點：

　　1.采用閉環(huán)控制伺服電機，數字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻。

　　2.5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置)，可選配10個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，多100個階段。

　　3.內置水平校準裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。

　　4、多重安全保護

　　電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實驗人員安全。

　　5.一機兩用，根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。

　　6.不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

　　7.勻膠機適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。

　　CIF-Spin Coater勻膠機技術參數：

型號	轉速（轉/分）	轉速穩(wěn)定度	勻膠時間	旋涂基片尺寸mm	外型尺寸（LxWxH）mm
SC1	50-10000	±1％	0-2000S	圓片Φ5-Φ100,方片大100x100	310x260x250

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