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  • CPC-FCIF等離子清洗機F系列
    CPC-FCIF等離子清洗機F系列

    CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備,合理的結構設計,優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。CIF等離子清洗機F系列性能穩(wěn)定,操作簡單方便,易維護。

    時間:2024-08-28型號:CPC-F訪問量:5669
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  • SC1CIF勻膠機
    SC1CIF勻膠機

    CIF勻膠機轉速穩(wěn)定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

    時間:2024-08-28型號:SC1訪問量:3300
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  • CIF-TEM透射電鏡樣品桿清洗機
    CIF-TEM透射電鏡樣品桿清洗機

    CIF 透射電鏡(TEM)樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設計,清洗快速高效, 低轟擊損傷, 同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

    時間:2024-08-28型號:CIF-TEM訪問量:3467
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  • UVO9/UVO9P/UVO9TCIF-UV Ozone Cleaner
    UVO9/UVO9P/UVO9TCIF-UV Ozone Cleaner

    紫外臭氧清洗機(UVOzone Cleaner, UVO),是一種簡單,經(jīng)濟,快速高效的材料表面清洗設備,能快速去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)表面上的有機污染物。

    時間:2024-08-28型號:UVO9/UVO9P/UVO9T訪問量:2490
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  • SPB5/plusRIE反應離子刻蝕機
    SPB5/plusRIE反應離子刻蝕機

    CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機,采用 RIE 反應離子誘導激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。

    時間:2024-08-28型號:SPB5/plus訪問量:1052
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  • CPC-10/PlusCIF中試型等離子清洗機CPC-10系列
    CPC-10/PlusCIF中試型等離子清洗機CPC-10系列

    CIF推出全新一代 CPC-10系列實驗室型等離子體清洗設備, 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價比高, 處理快速高效, 特別適合于大學, 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。

    時間:2024-08-28型號:CPC-10/Plus訪問量:1986
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  • CPC-G/PlusCIF實驗室型等離子清洗機
    CPC-G/PlusCIF實驗室型等離子清洗機

    CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設備, 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念。CIF實驗室型等離子清洗機具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價比高, 處理快速高效, 特別適合于大學, 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。

    時間:2024-08-28型號:CPC-G/Plus訪問量:2294
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  • CPC-F/PlusCIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列
    CPC-F/PlusCIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列

    CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備,合理的結構設計,優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。 CIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列性能穩(wěn)定,操作簡單方便,易維護。

    時間:2024-08-28型號:CPC-F/Plus訪問量:2241
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